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更新日期：2024-03-19
簡要描述：
日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2光刻工藝中的簡單曝光印刷設(shè)備臺式和一體式，節(jié)省空間通過安裝微型計算機來精確控制照射時間
日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2
日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2
規(guī)格
| 模型 | UVL-2 |
|---|---|
| 光源 | 超高壓汞燈 |
| 強度[mW /?] | 20 |
| 光通量 | 100 x 100（有效的80 x 80） |
| 照度不均勻度[±％] | 8 |
| 曝光時間 | 0.5 --99.9 |
| 樣品架 | 固定型帶平面微調(diào)機構(gòu) |
| 樣品尺寸[mm x mm] | 100 x 100 |
| 尺寸[mm x mm] | 70 x 70 |
| 樣品固定 | 塞子鄰接方法 |
| 通訊接口 | RS-232C |
| 電源電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
| 消耗功率[VA] | 700 |
| 操作環(huán)境 | ?溫度：5-35 [℃] ?濕度：80 [％]以下但是，不得結(jié)露。 |
| 尺寸（寬x高x深）[mm] | 350 x 790 x 350 |
